高性能靶材
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产品列表
共 32 款产品
装饰镀膜靶材
装饰镀膜用铬及合金靶材
装饰镀膜用金属及合金溅射靶材,适用于钟表、首饰、五金件表面处理
银靶(Ag靶)
Low-E玻璃镀膜用高纯银溅射靶材
Low-E玻璃镀膜用高纯银溅射靶材
ITO光伏靶材
太阳能电池用高纯ITO溅射靶材
光伏用ITO靶材(90:10、97:3),兼顾薄膜方阻和透过率,溅射稳定,不易结瘤。
ITO靶材
TFT-LCD显示面板用高纯平面ITO靶材
高世代线G11/G10.5/G8.5/G5 TFT/OLED靶材,尺寸可达4000mm长,适合AMAT/ULVAC等镀膜设备。
高纯铜靶(Cu靶)
欧莱铜靶材具有纯度高、氧含量低、晶粒尺寸小等突出优势。
欧莱铜靶材具有纯度高、氧含量低、晶粒尺寸小等突出优势。
钛铝靶材(TiAl)
装饰镀钛铝合金靶材
整片钛铝TiAl靶材,适用于装饰镀膜和工具镀膜。
铜靶(Cu靶)
Low-E玻璃镀膜用铜靶材
Low-E玻璃镀膜用铜溅射靶材
钼靶(Mo靶)
TFT-LCD显示面板用高纯钼靶材
显示面板用钼溅射靶材,用于电极和配线层
高纯铝及合金 Al/AlSi/AlCu/AlSiCu
半导体芯片用高纯铝及合金溅射靶材,纯度≥5N5,晶粒尺寸平均≤100μm。
半导体芯片用高纯铝及合金溅射靶材,纯度≥5N5,晶粒尺寸平均≤100μm。
铝铬靶材(AlCr)
装饰镀铝铬合金靶材
整片铝铬AlCr靶材,长度可达2米,适用于装饰镀膜。
建筑玻璃靶材
Low-E玻璃镀膜靶材
作为行业最主要的长期供应商,所制造靶材适合所有常规镀膜系统,如VON ARDENNE、LEYBOLD、BOC AIRCO、AMAT等,长度达4000mm,可根据
OMHT超高迁移率靶材
高迁移率透明导电靶材
OMHT超高迁移率靶材(99:1),迁移率120+cm²/(V·s),薄膜方阻低,透过率高,可有效提高电池光电转换效率。
铝靶(Al靶)
TFT-LCD显示面板用高纯铜靶材
显示面板用高纯铝溅射靶材,G8.5规格,国内首家通过客户验证
钛靶(Ti靶)
半导体芯片阻挡层用钛溅射靶材,高纯度、高致密度
半导体芯片阻挡层用钛溅射靶材,高纯度、高致密度
石墨靶材
石墨靶材
高纯石墨靶材,适用于装饰镀膜及功能镀膜。
镍铬靶材(NiCr)
Low-E玻璃镍铬靶材
整片镍铬NiCr靶材,长度可达3900mm,适用于Low-E玻璃镀膜生产线。
TCOM无铟靶材
无铟透明导电靶材
TCOM无铟靶材,有效降低靶材成本,薄膜近红外区透过率高,适用于光伏电池。
旋转ITO靶材
高世代线旋转ITO靶材
高世代线TFT/OLED用旋转ITO靶材,尺寸可达4000mm长,溅射效率高,利用率高。
钽靶(Ta靶)
半导体芯片铜互连扩散阻挡层用钽溅射靶材
半导体芯片铜互连扩散阻挡层用钽溅射靶材
硅靶材(Si)
高纯硅靶材
高纯硅靶材,适用于装饰镀膜及功能镀膜。
铬-镍铬-不锈钢靶材
铬基合金靶材
铬、镍铬、不锈钢等系列靶材,适用于建筑玻璃功能镀膜。
PRD-PED靶材
圆柱小靶材
RPD/PED靶材,包括ICO(迁移率150+cm²/(V·s))、IWO、IZO、AZO、SnOx小圆柱靶。
旋转铝靶
高纯旋转铝靶材
TFT-LCD显示面板用高纯旋转铝靶材,适用于AMAT/ULVAC等镀膜设备。
钴靶(Co靶)
半导体芯片接触层用钴溅射靶材,适用于先进制程
半导体芯片接触层用钴溅射靶材,适用于先进制程
钛-钛铝靶材
钛及钛铝合金靶材
钛及钛铝合金系列靶材,适用于装饰镀膜和工具镀膜。
电极金属化靶材
光伏电极金属化靶材
太阳能电池电极金属化用靶材,适用于光伏电池正面/背面电极制备。
旋转铜靶
高纯旋转铜靶材
TFT-LCD显示面板用高纯旋转铜靶材,导电性优异,适用于高世代线。
磷铜阳极
高纯磷铜阳极材料
集成电路电镀用高纯磷铜阳极,磷含量均匀,溶解性能优异,适用于先进封装电镀工艺。
铟锡靶材(InSn)
铟锡合金靶材
铟锡合金靶材,适用于装饰镀膜。
空穴传输层靶材
NiOx空穴传输层靶材
NiOx:X靶,适用于钙钛矿太阳能电池空穴传输层制备。
镍靶材(Ni)
高纯镍靶材
高纯镍靶材,适用于装饰镀膜和工具镀膜。
铬-铝铬-钛-锆-镍系列靶材
多元合金靶材
铬、铝铬、钛、钛铝、锆、镍等系列靶材,满足多种装饰镀膜和工具镀膜需求。